대기업 협력사 임직원, 반도체 핵심 기술 中에 빼돌렸다

하이닉스·삼성전자 관련 업체 17명 기소
HKMG 제조법·세정 레시피 경쟁사 넘겨
유출 피해 금액 환산 어렵지만 상당할 듯

국내 반도체 대기업 SK하이닉스의 D램 반도체 핵심 기술을 빼내 중국 경쟁사에 넘기고, 삼성전자 자회사의 기술을 빼돌려 자사 장비 개발에 사용한 SK하이닉스 협력업체 임직원 10여명이 재판에 넘겨졌다.

국가핵심기술 국외 유출 사건을 수사한 서울중앙지검 형사12부(부장 조상원)는 26일 반도체 장비업체 A사의 임모(51) 연구소장과 윤모(53) 이사 등 5명을 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속 기소했다고 밝혔다. 범행에 가담한 A사 부사장과 삼성전자 전 직원 등 12명은 불구속 기소됐다.

임 연구소장 등은 2018년 8월부터 지난해 6월까지 SK하이닉스의 HKMG(하이K메탈게이트) 반도체 제조 기술과 반도체 세정 레시피 등 첨단 기술을 중국 반도체 업체들에 유출한 혐의를 받는다. HKMG 기술은 D램 반도체 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 기술이다. 이들은 SK하이닉스와의 협업 과정에서 알게 된 핵심 기술들을 빼돌린 것으로 확인됐다.

이와 별도로 윤 이사 등은 A사의 경쟁 업체이자 삼성전자의 자회사인 반도체 장비업체 세메스의 전 직원을 매수해 초임계 세정장비 도면 등 영업비밀을 확보하고 자신들의 수출용 반도체 세정장비 개발에 활용한 혐의가 있다. 초임계 세정장비는 액체 이산화탄소를 활용한 최첨단 화학물질 건조 장비로 세메스가 세계 최초로 개발했다.

검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 기술이 중국 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받아 수사에 착수했다. 지난해 7월과 10월 A사에 대한 압수수색을 벌인 끝에 지난달부터 이날까지 모두 17명을 재판에 넘겼다. 검찰은 “A사가 빼돌린 기술은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술”이라며 “신속한 수사를 통해 HKMG 제조 기술의 추가적인 국외 유출을 방지하고, 유출된 기술을 사용해 제조한 반도체 초임계 세정장비의 중국 수출을 사전에 막았다”고 밝혔다.

진선민 기자 jsm@seoul.co.kr